 |
Фонд SIPO владеет правами на следующие технологии:
- Solar-Si – технология производства кремния солнечного качества (6N)
- Тонкие пластины Ельцова - нанесение ультра-тонких слоев монокристаллов кремния на графитовую подложку
- Гибкие кристаллы Чуканова – производство монокристаллов кремния сферической формы
Solar-Si - технология производства кремнияМаркетинговая задача:
- Снижение себестоимости производства кремния для солнечной энергетики. Создание производственной базы для разработки солнечных элементов в РФ.
Концептуальное решение
- Источник сырья с хлорсиланов изменен на кремнийфтористо-водородную кислоту. Предложен оригинальный экстрагент для выделения и очистки SiF4. Использован магний для восстановления кремния в вихревом реакторе.
Результаты экспериментов
- Получены монокристаллы кремния сферической формы кремний чистотой 6N
- Себестоимость снижена в 3 раза до 7.5$/кг
- Капитальные затраты снижены в 2 раза до 50 $M на 1000 т
Патенты
- Получен патент на «Способ получения кремния» 19.12.2008г.
- Получен патент на «Способ восстановления кремния» 27.12.2008
- Подана заявка на «Способ получения кремния и устройство для его осуществления», расширяющая территорию охраны патентов по процедуре РСТ.
Проекты на основе технологии:
- Производство кремния.
- Производство фотоэлементов на основе сферических гранул.
Тонкие пластины Ельцова -нанесение ультратонких слоев кристаллов кремния на графитовую подложкуМаркетинговая задача:
- Снижение расхода кремния на 1Вт мощности фотоэлемента.
Концептуальное решение
- Непрерывное выращивание слоя кремния из расплава на перемещающуюся в горизонтальной плоскости подложку, выполненную из графитовой фольги, осуществляют посредством капиллярного питателя.
Результаты экспериментов
- Толщина слоя: 8-60мкм (определяется скоростью)
- Размер зерен достигает нескольких сантиметров
- Ширина нанесения до 165 мм
Патенты
- На технологию подана заявка на патент: «Способ непрерывного выращивания слоев кремния, подложка для выращивания слоев кремния и способ изготовления подложки»
Проекты на основе технологии:
- Производство пластин (wafers) для фотоэлементов со сниженным расходом кремния в 7-20 раз.
- Производство фотоэлементов.
Применение технологии:
- производство оборудования по нанесению,
- производство пластин.
Гибкие кристаллы Чуканова - монокристаллы кремния сферической формыМаркетинговая задача:
- Снижение расхода кремния на 1Вт мощности фотоэлемента.
Концептуальное решение
- Создание монокристаллов кремния сферической формы как основы для солнечных элементов с увеличенной в 4 раза рабочей поверхностью методом центробежного распыления расплава.
Результаты экспериментов
- Структура сферы - монокристалл
- Дисперсия 20-1500 мкм.
Патенты
- На технологию поданы заявки на патент: «Способ производства сферических кристаллов кремния», «Фотоэлемент»
Проекты на основе технологии:
- Производство сферических монокристаллов (wafers) для фотоэлементов со сниженным расходом кремния на 1 Вт мощности в 4-11 раз
- Производство фотоэлементов.
|